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無(wú)機(jī)光降解填充劑——碳酸鈣

發(fā)布時(shí)間:2015-05-05 來(lái)源: 環(huán)球塑化網(wǎng) 專題: 塑料助劑 打印

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  對(duì)于遮光性地膜,可在聚烯烴中添加大量無(wú)機(jī)光降解填充劑——碳酸鈣,由于碳酸鈣中的羰基對(duì)周圍的樹脂有一定的加速老化作用,因此,也可用來(lái)制造價(jià)格低廉的光降解地膜。

  這種含碳酸鈣的聚乙烯薄膜作為地膜時(shí)的主要缺點(diǎn)是,在地膜非常薄的條件下,碳酸鈣的遮光能力不足,不能充分抑制雜草的生長(zhǎng)發(fā)育。

  在聚烯烴中,添加50~200%碳酸鈣,制成很薄的薄膜,在此薄膜的一面,涂以硅膠,水玻璃或膠體氫氧化鋁而組成的無(wú)機(jī)涂料,在涂料干燥后可作為遮光性地膜,地膜有優(yōu)良的光降解性、遮光性和抗粘連性,在使用完畢后非常易于破碎,且燃燒發(fā)熱量很低,易于處理。

無(wú)機(jī)光降解填充劑——碳酸鈣
無(wú)機(jī)光降解填充劑——碳酸鈣

  薄膜中所添加的碳酸鈣粉末應(yīng)很細(xì),粒度平均值應(yīng)為1~20um,最佳粒度為2~5um。在此薄膜中還可添加1~10%硬脂酸鈣,可有更好的光分解作用。常用薄膜厚度為10~50um。由于很薄,成型的薄膜透光率仍可達(dá)80%以上。

  無(wú)機(jī)涂料成分中的硅膠的分散型膠體粒徑為2~150nm,二氧化硅含量為3~55%,若以通式XSiO2M2O來(lái)表示(其中M表示li,Na,K,NH4或含氮有機(jī)堿性陽(yáng)離子基),則Si02/M20的摩爾比為10~2000,其膠體穩(wěn)定性良好。

  無(wú)機(jī)涂料中的硅酸鹽溶液可以是硅酸鈉,硅酸鉀,硅酸鋰及仲胺、叔胺或伯胺的硅酸鹽,及季銨硅酸鹽,其Si02/M2O的摩爾比應(yīng)小于10。

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